| 产品特性：分析仪 | 是否进口：否 | 产地：日本 |
| 加工定制：否 | 品牌：otsuka大塚 | 型号： SF-3 |
大塚电子从其创立之初就以光散射技术和分离技术为基础，这些技术不仅是公司的技术根源，也是新材料分析的核心技术并以这些技术开发、生产和销售独特的产品。利用光散射技术的产品是大塚电子历史最悠久的产品系列之一。在许多大学、官方机构和企业中，做为功能材料和新材料物性评估测量设备被高度评价。在接受各方面的建议和帮助下，不断开发分子量测定、微粒子粒径测定和电位测定设备，并在各应用领域进行改进。同时，从基础研究到质量控制的用途不断扩大，在这一领域已经成为日本的国产制造商，获得了极高的信任。
利用光散射作为新材料分析的核心技术，并将其应用于纳米技术领域的物性测量。以粒子大小、电位和分子量的测量方法作为基准，拓展新材料、生命科学、高分子化学，以及半导体和医药等领域的应用。
分光干涉式晶圆膜厚仪 SF-3
即时检测 WAFER基板于研磨制程中的膜厚 玻璃基板于减薄制程中的厚度变化 (强酸环境中) 产品特色 非接触式、非破坏性光学式膜厚检测 采用分光干涉法实现高度检测再现性 可进行高速...
即时检测
WAFER基板于研磨制程中的膜厚
玻璃基板(强酸环境中)于减薄制程中的厚度变化
非接触式、非破坏性光学式膜厚检测
● 采用分光干涉法实现高度检测再现性
● 可进行高速的即时研磨检测
● 可穿越保护膜、观景窗等中间层的检测
● 可对应长工作距离、且容易安裝于产线或者设备中
● 体积小、省空間、设备安装简易
● 可对应线上检测的外部信号触发需求
● 采用最适合膜厚检测的独自解析演算法。(已取得***)
● 可自动进行膜厚分布制图(选配项目)
