大塚电子从其创立之初就以光散射技术和分离技术为基础，这些技术不仅是公司的技术根源，也是新材料分析的核心技术并以这些技术开发、生产和销售独特的产品。利用光散射技术的产品是大塚电子历史最悠久的产品系列之一。在许多大学、官方机构和企业中，做为功能材料和新材料物性评估测量设备被高度评价。在接受各方面的建议和帮助下，不断开发分子量测定、微粒子粒径测定和电位测定设备，并在各应用领域进行改进。同时，从基础研究到质量控制的用途不断扩大，在这一领域已经成为日本的国产制造商，获得了极高的信任。

利用光散射作为新材料分析的核心技术，并将其应用于纳米技术领域的物性测量。以粒子大小、电位和分子量的测量方法作为基准，拓展新材料、生命科学、高分子化学，以及半导体和医药等领域的应用。

显微分光膜厚仪 OPTM series|
 非接触 · 非破坏 · 显微、对焦、测量1秒完成 ● OPTM系列显微分光膜厚仪是一款可替代椭偏仪，测试膜厚、折射率n、消光系数k、反射率的新型高精度、高性价比的分光膜厚仪。适用于各种可透光膜层的测试，并有***可针对透明基板去除背面反射，从而达到“真实反射率、膜厚”测试的目的。此外，软件操作简单、使用方便且简化了复杂的建模流程。

● 非接触、非破坏式，量测头可自由集成在客户系统内

● 初学者也能轻松解析建模的初学者解析模式

● 高精度、高再现性量测紫外到近红外波段内的反射率，可分析多层薄膜厚度、光学常数（n：折射率、k：消光系数）

● 单点对焦加量测在1秒内完成

● 显微分光下广范围的光学系统（紫外 ~ 近红外）

● 独立测试头对应各种inline定制化需求

● 最小对应spot约3μm

● ***可针对超薄膜解析nk

 反射率分析

●  多层膜解析（50层）

●  光学常数（n：折射率、k：消光系数）

膜或者玻璃等透明基板样品，受基板内部反射的影响，无法正确测量。OPTM系列使用物镜，可以物理去除内部反射，即使是透明基板也可以实现高精度测量。此外，对具有光学异向性的膜或SiC等样品，也可完全不受其影响，单独测量上面的膜。

应用范围

● 半导体、复合半导体：硅半导体、碳化硅半导体、砷化镓半导体、光刻胶、介电常数材料

● FPD：LCD、TFT、OLED（有机EL）

● 资料储存：DVD、磁头薄膜、磁性材料

● 光学材料：滤光片、抗反射膜

● 平面显示器：液晶显示器、薄膜晶体管、OLED

● 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等

● 其它：建筑用材料、胶水、DLC等